靜態(tài)丈量時

，用單次丈量的丈量值作為終極丈量成果，是凡是使用的較輕便的丈量方式。

單次丈量的基礎特色是只測一次

，丈量應是很當真的,不該有過掉偏差。

單次丈量重要用于一般的出產丈量,凡是不入行龐雜的數(shù)據(jù)處置計算。

若靜態(tài)實驗數(shù)據(jù)是多次反應丈量的數(shù)據(jù)列時

，一般應依據(jù)上一節(jié)所述的偏差理論估量和打消丈量偏差的影響，斷定被測參量的公道值。

數(shù)據(jù)處置的基礎步調如下:

(a) 按丈量次序

，用表格情勢記下測得數(shù)據(jù)。

(b) 依據(jù)式(1-6)和式(1-10)

計算直接丈量獲得的實驗數(shù)據(jù)列的算術均勻值遙和尺度差估量值S。

(1) 檢修和剔除含有過掉偏差的異常數(shù)據(jù)

(2) 功率譜剖析: 功率譜密度函數(shù)給出了被測參量的能量在頻域的散布紀律

。

隨機進程中去去含有多種頻率身分

，要相識隨機進程(丈量偏差,被測旌旗燈號)中的頻率散布情形，以便剖析偏差泉源，就須要對進程入行頻譜剖析。

功率譜密度函數(shù)和自相干函數(shù)是一對傅氏變換對。

(d) 概率密度剖析:

當實驗數(shù)據(jù)顯著偏離正態(tài)散布時

，需計算其概率密度，以斷定數(shù)據(jù)在幅值域的現(xiàn)實概率散布特性。以上是動態(tài)數(shù)據(jù)剖析的重要內容。

依據(jù)不同的測試要求

，有時還需對實驗數(shù)據(jù)入行一些其它剖析處置，如非安穩(wěn)進程的安穩(wěn)化處置,峰值概率密度函數(shù)的計算等。

3.數(shù)據(jù)檢修

隨機數(shù)據(jù)的剖析計算時,一般假定命據(jù)知足安穩(wěn)性

、周期性和正態(tài)性三個基礎特征。實驗數(shù)據(jù)是否知足上述特征要求要根據(jù)數(shù)據(jù)剖析的成果入行檢修。

均值和方差可用于檢修數(shù)據(jù)的自相干函數(shù)和功率譜密度

，函數(shù)可用于檢修數(shù)據(jù)中是不含穩(wěn)性，有周期和準周期數(shù)據(jù)分量，將計算數(shù)據(jù)的概率密度函數(shù)與理論正態(tài)散布比力可用于檢修數(shù)據(jù)的正態(tài)性。

實驗數(shù)據(jù)不知足基礎特征要求時，需入行必要的處置,如安穩(wěn)化處置,然后從頭入行數(shù)據(jù)剖析